Preview

Ядерная физика и инжиниринг

Расширенный поиск

Формирование перспективных пленочных электродных систем с использованием различных методов вакуумного напыления

https://doi.org/10.56304/S2079562922030113

Аннотация

Представлен автоматизированный вакуумно-технологический комплекс ЛОТОС-2I-VE и текущее состояние в области создания пленочных электродных систем. Рассмотрены особенности имеющегося технологического оборудования для создания перспективных многофункциональных пленочных покрытий.

Об авторах

С. Г. Давыдов
Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова
Россия

Москва, 127055



A. Н. Долгов
Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова
Россия

Москва, 127055



А. А. Козлов
Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова
Россия

Москва, 127055



В. А. Максимов
Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова
Россия

Москва, 127055



В. О. Ревазов
Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова
Россия

Москва, 127055



Р. Х. Якубов
Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова
Россия

Москва, 127055



Список литературы

1. Давыдов С.Г., Максимов В.А., Ревазов В.О., Якубов Р.Х. // Труды 15-й Междунар. конф. “Пленки и покрытия 2021”. 2021. Санкт-Петербург: ООО “РПК “Амиго Принт”. С. 128−132.

2. Кулаева М.В. Автореферат дисс. к.т.н. 1998. Владикавказ: Северо-Кавказский гос. технол. унив.

3. Davydov S.G., Dolgov A.N., Kozlov A.A., Maksimov V.A., Yakubov R.Kh. // J. Phys.: Conf. Ser. 2021. V. 2059 (1). P. 012006.


Рецензия

Для цитирования:


Давыдов С.Г., Долгов A.Н., Козлов А.А., Максимов В.А., Ревазов В.О., Якубов Р.Х. Формирование перспективных пленочных электродных систем с использованием различных методов вакуумного напыления. Ядерная физика и инжиниринг. 2022;13(6):545-549. https://doi.org/10.56304/S2079562922030113

For citation:


Davydov S.G., Dolgov A.N., Kozlov A.A., Maksimov V.А., Revazov V.O., Yakubov R.Kh. Creation of Promising Thin Film Electrode Using Vacuum Deposition Methods. Nuclear Physics and Engineering. 2022;13(6):545-549. https://doi.org/10.56304/S2079562922030113

Просмотров: 18


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 2079-5629 (Print)
ISSN 2079-5637 (Online)