Омические потери напряжения на прозрачных тонкопленочных оксидных электродах электрохромных модулей, осажденных из плазмы магнетронного разряда, при их окрашивании
https://doi.org/10.56304/S2079562922030332
Аннотация
Рассмотрены процессы, влияющие на омические потери напряжения на границе реакционно осажденных из плазмы магнетронного разряда тонкопленочных оксидных SnO2:F электродов и полимерного электролита внутри ячеек электрохромных устройств. Выявлена зависимость регистрируемого полного омического сопротивления устройства от величины совокупного накопленного в ходе его окрашивания заряда. Проведена оценка влияния площади устройства на вклад в его полное омическое сопротивление от сопротивления непосредственно тонкопленочных оксидных электродов. Предположение о присутствии случайного количества носителей заряда ЭХУ на поверхности его электродов в начальный момент процесса окрашивания, также привносящего вклад в начальное омическое сопротивление устройства, подтверждено посредствам независимой импедансной спектроскопии электролитического слоя.
Об авторах
К. С. НовиковаРоссия
Москва, 123112
В. В. Кравченко
Россия
Москва, 123112
Д. П. Княжев
Россия
Москва, 123112
Д. Д. Бернт
Россия
Москва, 123112; Москва, 115409
А. А. Писарев
Россия
Москва, 115409
Список литературы
1. Somani P.R., Radhakrishnan S. // Mat. Chem. Phys. 2002. V. 77. P. 117–133.
2. Mehmood A., Long X., Haidry A.A., Zhang X. // Ceram. Int. 2020. V. 46 (15). P. 23295–23313.
3. Raugh R.D. // Electrochim. Acta. 1999. V. 44 (18). P. 3165–3176.
4. Granqvist C.G. Handbook of Inorganic Electrochromic Materials. 1995. Amsterdam: Elseiver. P. 114–136.
5. Louloudakis D. et al. // Electrochim. Acta. 2021. V. 376. P. 138049.
6. Bange K., Gambke T. // Adv. Mater. 1990. V. 2. P. 10– 16.
7. Ellmer K. // J. Appl. Phys. 2000. V. 33. P. 17–32.
8. Mortimer R.J. // Chem. Soc. Rev. 1997. V. 26. P. 147–156.
9. Gu H., Lin K., Liu X., et al. // J. Solid State Electrochem. 2018. V. 22. P. 599–611.
10. Welsh T.A., Draper E.R. // RSC Adv. 2021 . V. 11. P. 5245–5264.
11. Ah C.S. et al. // Bull. Korean Chem. Soc. 2015. V. 36. P. 548–552.
12. Xu T., Walter E., Agrawal A., et al. // Nat. Commun. 2016. V. 7. 10479.
13. Hudaya C., Park J.H., Lee J.K. // Nanoscale Res. Lett. 2012. V. 7. P. 17.
14. Liu L., Du K., et al. // Nano Energy. 2019. V. 62. P. 46– 54.
15. Evrard M., Aurelien B., Lucas S. // Surf. Coat. Technol. 2019. V. 378. P. 125070.
16. Lin J. et al. // Surf. Coat. Technol. 2010. V. 204 (14). P. 2230–2239.
17. Depla D. et al. // Thin Solid Films. 2019. V. 688. P. 202– 226.
18. Barsoukov E., Ross Macdonald J. Impedance Spectroscopy. Theory, Experiment, and Applications. 2005. New York: Wiley. P. 38–41.
Рецензия
Для цитирования:
Новикова К.С., Кравченко В.В., Княжев Д.П., Бернт Д.Д., Писарев А.А. Омические потери напряжения на прозрачных тонкопленочных оксидных электродах электрохромных модулей, осажденных из плазмы магнетронного разряда, при их окрашивании. Ядерная физика и инжиниринг. 2022;13(5):494-500. https://doi.org/10.56304/S2079562922030332
For citation:
Novikova К.S., Kravchenko V.V., Knyazhev D.P., Bernt D.D., Pisarev А.А. OHMIC Losses on Magnetron-Sputtered PVD Thin-Film TCO Electrodes of the Electrochromic Modules During Their Tinting. Nuclear Physics and Engineering. 2022;13(5):494-500. (In Russ.) https://doi.org/10.56304/S2079562922030332