Preview

Ядерная физика и инжиниринг

Расширенный поиск

Омические потери напряжения на прозрачных тонкопленочных оксидных электродах электрохромных модулей, осажденных из плазмы магнетронного разряда, при их окрашивании

https://doi.org/10.56304/S2079562922030332

Аннотация

Рассмотрены процессы, влияющие на омические потери напряжения на границе реакционно осажденных из плазмы магнетронного разряда тонкопленочных оксидных SnO2:F электродов и полимерного электролита внутри ячеек электрохромных устройств. Выявлена зависимость регистрируемого полного омического сопротивления устройства от величины совокупного накопленного в ходе его окрашивания заряда. Проведена оценка влияния площади устройства на вклад в его полное омическое сопротивление от сопротивления непосредственно тонкопленочных оксидных электродов. Предположение о присутствии случайного количества носителей заряда ЭХУ на поверхности его электродов в начальный момент процесса окрашивания, также привносящего вклад в начальное омическое сопротивление устройства, подтверждено посредствам независимой импедансной спектроскопии электролитического слоя.

Об авторах

К. С. Новикова
АО “Октогласс”
Россия

Москва, 123112



В. В. Кравченко
АО “Октогласс”
Россия

Москва, 123112



Д. П. Княжев
АО “Октогласс”
Россия

Москва, 123112



Д. Д. Бернт
АО “Октогласс”; Национальный исследовательский ядерный университет “МИФИ”
Россия

Москва, 123112; Москва, 115409



А. А. Писарев
Национальный исследовательский ядерный университет “МИФИ”
Россия

Москва, 115409



Список литературы

1. Somani P.R., Radhakrishnan S. // Mat. Chem. Phys. 2002. V. 77. P. 117–133.

2. Mehmood A., Long X., Haidry A.A., Zhang X. // Ceram. Int. 2020. V. 46 (15). P. 23295–23313.

3. Raugh R.D. // Electrochim. Acta. 1999. V. 44 (18). P. 3165–3176.

4. Granqvist C.G. Handbook of Inorganic Electrochromic Materials. 1995. Amsterdam: Elseiver. P. 114–136.

5. Louloudakis D. et al. // Electrochim. Acta. 2021. V. 376. P. 138049.

6. Bange K., Gambke T. // Adv. Mater. 1990. V. 2. P. 10– 16.

7. Ellmer K. // J. Appl. Phys. 2000. V. 33. P. 17–32.

8. Mortimer R.J. // Chem. Soc. Rev. 1997. V. 26. P. 147–156.

9. Gu H., Lin K., Liu X., et al. // J. Solid State Electrochem. 2018. V. 22. P. 599–611.

10. Welsh T.A., Draper E.R. // RSC Adv. 2021 . V. 11. P. 5245–5264.

11. Ah C.S. et al. // Bull. Korean Chem. Soc. 2015. V. 36. P. 548–552.

12. Xu T., Walter E., Agrawal A., et al. // Nat. Commun. 2016. V. 7. 10479.

13. Hudaya C., Park J.H., Lee J.K. // Nanoscale Res. Lett. 2012. V. 7. P. 17.

14. Liu L., Du K., et al. // Nano Energy. 2019. V. 62. P. 46– 54.

15. Evrard M., Aurelien B., Lucas S. // Surf. Coat. Technol. 2019. V. 378. P. 125070.

16. Lin J. et al. // Surf. Coat. Technol. 2010. V. 204 (14). P. 2230–2239.

17. Depla D. et al. // Thin Solid Films. 2019. V. 688. P. 202– 226.

18. Barsoukov E., Ross Macdonald J. Impedance Spectroscopy. Theory, Experiment, and Applications. 2005. New York: Wiley. P. 38–41.


Рецензия

Для цитирования:


Новикова К.С., Кравченко В.В., Княжев Д.П., Бернт Д.Д., Писарев А.А. Омические потери напряжения на прозрачных тонкопленочных оксидных электродах электрохромных модулей, осажденных из плазмы магнетронного разряда, при их окрашивании. Ядерная физика и инжиниринг. 2022;13(5):494-500. https://doi.org/10.56304/S2079562922030332

For citation:


Novikova К.S., Kravchenko V.V., Knyazhev D.P., Bernt D.D., Pisarev А.А. OHMIC Losses on Magnetron-Sputtered PVD Thin-Film TCO Electrodes of the Electrochromic Modules During Their Tinting. Nuclear Physics and Engineering. 2022;13(5):494-500. (In Russ.) https://doi.org/10.56304/S2079562922030332

Просмотров: 22


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 2079-5629 (Print)
ISSN 2079-5637 (Online)