ВЛИЯНИЕ ПРОНИЦИАЕМОСТИ ОСАЖДАЕМЫХ ИЗ ПЛАЗМЫ МАГНЕТРОННОГО РАЗРЯДА W-СЛОЕВ НА ЦИКЛИЧЕСКУЮ УСТОЙЧИВОСТЬ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ЭЛЕКТРОХРОМНЫХ МОДУЛЕЙ
https://doi.org/10.56304/S2079562922010213
Аннотация
Рассмотрены процессы деградации тонкопленочных электрохромных модулей в ходе их циклирования, связанные с блистерообразованием в PVD-осаждаемых оксидных слоях вольфрамовых электродов. Показано, что блистерообразование связано с накоплением в вольфрамовых пленках радикальных компонент из нижележащих слоев тонкопленочной структуры модулей. Проведена по средствам термодесорбционной спектроскопии оценка проницаемости керамических вольфрам-оксидных слоев в зависимости от их стехиометрии и предложены пути улучшения циклической устойчивости вольфрамовых слоев через их реакционное осаждение из плазмы магнетронного разряда в условиях дефицита реакционной компоненты смеси рабочих газов.
Об авторах
В. В. Кравченко
АО “Октогласс”, Москва, 123112 Россия
Россия
Россия
Д. П. Княжев
АО “Октогласс”, Москва, 123112 Россия
Россия
Россия
Д. Д. Бернт
АО “Октогласс”, Москва, 123112 Россия
Национальный исследовательский ядерный университет “МИФИ”, Москва, Россия
Россия
Национальный исследовательский ядерный университет “МИФИ”, Москва, Россия
Россия
А. А. Писарев
Национальный исследовательский ядерный университет “МИФИ”, Москва, Россия
Россия
Россия
Список литературы
1. <em>Somani P.R., Radhakrishnan S.</em> // Mater. Chem. Phys. 2002. V. 77. P. 117.
2. <em>Mehmood A., Long X., Haidry A.A., Zhang X.</em> // Ceram. Int. 2020. V. 46 (15). P. 23295.
3. <em>Raugh R.D.</em> // Electrochim. Acta. 1999. V. 44 (18). P. 3165.
4. <em>Nguyen T.H.Q. et al.</em> // Electrochim. Acta. 2021. V. 377. P. 138065.
5. <em>Lv X., Yang Y., Xu L., Li J., Xu Z., Zhu R., Wright D.S., Zhang C.</em> // React. Funct. Polym. 2020. V. 156. P. 104737.
6. <em>Chuan L., Hsieh J.H., Su T.Y., Wu P.L.</em> // Thin Solid Films. 2018. V. 660. P. 373.
7. <em>Granqvist C.G.</em> Handbook of Inorganic Electrochromic Materials. 1995. Amsterdam: Elseiver. P. 114.
8. <em>Louloudakis D. et al.</em> // Electrochim. Acta. 2021. V. 376. P. 138049.
9. <em>Chang C.-M. et al.</em> // Sol. Energ. Mater. Sol. Cells. 2021. V. 223. P. 110960.
10. <em>Zeng J., Wang Y., Rajan K., Xiao Z., Sagar R., Liu P.</em> // Sol. Energ. Mater. Sol. Cells. 2021. V. 226. P. 111070.
11. <em>Laurinavichyute V.K. et al.</em> // Electrochim. Acta. 2013. V. 99. P. 102.
12. <em>Efimov V.S., Gasparyan Y.M., Pisarev A.A.</em> // J. Surf. Invest: X-ray Synchrotr. Neutron. Tech. 2013. V. 7. No. 3. P. 472.
Рецензия
Для цитирования:
Кравченко В.В., Княжев Д.П., Бернт Д.Д., Писарев А.А. ВЛИЯНИЕ ПРОНИЦИАЕМОСТИ ОСАЖДАЕМЫХ ИЗ ПЛАЗМЫ МАГНЕТРОННОГО РАЗРЯДА W-СЛОЕВ НА ЦИКЛИЧЕСКУЮ УСТОЙЧИВОСТЬ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ЭЛЕКТРОХРОМНЫХ МОДУЛЕЙ. Ядерная физика и инжиниринг. 2022;13(1):85-90. https://doi.org/10.56304/S2079562922010213
For citation:
Kravchenko V.V., Knyazhev D.P., Bernt D.D., Pisarev A.A. Magnetron Plasma Sputter Deposited W-Layers Permeability Influence on the Cycling Stability of Thin Film Electrochromic Modules. Nuclear Physics and Engineering. 2022;13(1):85-90. (In Russ.) https://doi.org/10.56304/S2079562922010213
Просмотров:
68
Послать статью по эл. почте 